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什么叫掩膜i先人们从物理学的视角讨论一下mask究竟是什么全过程。在半导体设备中，很多集成ic加工工艺流程选用光刻技术，用以这种流程的图型“胶片照片”称之为掩膜（也称之为“掩模”），其功效是：在硅片上选中的地区中对1个不全透明的图型模版遮住，进而下边的浸蚀或外扩散将只危害选中的地区之外的地区。图象掩膜两者之间相近，用选中的图象、图型或物块，对解决的图象（所有或部分）开展挡住，来操纵图象处理的地区或处理方式。-

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还有一种0.175mm后的银盐菲林统称光绘黑片，有遮光度和透光度的要求，即黑白分明（一般遮光度>4.0，透光度小宇0.04）。其镭射光源为650~670纳米的红色激光，类似高i端的富士XPR-7S级别菲林，线宽精度可以做到±1.5um级别；尺寸涨缩影响随环境变化，每1℃温度或每1%RH湿度改变，变化系数约为0.001%。

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