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什么叫掩膜i先人们从物理学的视角讨论一下mask究竟是什么全过程。在半导体设备中，很多集成ic加工工艺流程选用光刻技术，用以这种流程的图型“胶片照片”称之为掩膜（也称之为“掩模”），其功效是：在硅片上选中的地区中对1个不全透明的图型模版遮住，进而下边的浸蚀或外扩散将只危害选中的地区之外的地区。图象掩膜两者之间相近，用选中的图象、图型或物块，对解决的图象（所有或部分）开展挡住，光罩，来操纵图象处理的地区或处理方式。-

根据金属化全过程，在硅衬底上布局一层层仅数纳米技术厚的金属材料层。随后在这里层金属材料上覆上一层层光刻胶。这层光阻剂在曝i光（通常是紫外光）后能够 被特殊水溶液（显影液）融解。使特殊的纳米越过光掩膜直射在光刻胶上，能够 对光刻胶开展可选择性直射（曝i光）。随后应用前边提及的显影液，融解掉被直射的地区，那样，光掩模上的图型就展现在光刻胶上。一般 还将根据风干对策，改进剩下一部分光刻胶的某些特性。所述流程进行后，就能够 对衬底开展可选择性的刻蚀或离子注入全过程，未被融解的光刻胶将维护衬底在这种全过程中不被更改。

光绘丝印网版规格涨缩根本原因1、溫度的危害在空气湿度下，光绘丝印网版的规格随之溫度的升高而涨大，溫度降低而变小，其热涨形变指数在18ppm/℃上下，换句话说当溫度产生1℃的转变时，50cm长的丝印网版会产生9um的转变(或20寸中的0.36mil).2、环境湿度的危害在相对性溫度下，丝印网版的规格随之环境湿度的升高而涨大，空气湿度的减少而变小，湿涨形变指数在10ppm/%RH右，换句话说当环境湿度度产生1℃的转变时，50cm长的丝印网版会产生5um的转变(或20寸中的0.20mil).3、胶卷在光绘前沒有历经预设因为胶卷生产制造时没法事先操纵胶卷中的环境湿度与每一装配车间的环境湿度相同，因而应用以前应先使其与办公环境超过均衡的情况。提议预设時间为12钟头，预设时务必开启胶卷的包装，使其与外部的气体充足触碰。

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