公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
应用于芯片制造的光掩膜为高敏感度的铬版。干版涂附的乳胶，硬度小且易吸附灰尘，掩膜版，不过干版还有包膜和超微颗粒干版，其中后者可以应用于芯片制造。(顺便提一下，通常讲的菲林即film，底片或胶片的意思，感光为微小晶体颗粒)。
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蚀刻工艺通常称为版
刻蚀（Etch）是按照掩模图形或设计要求对半导体衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性刻蚀的技术，它是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻相联系的图形化（pattern）处理的一种主要工艺。刻蚀分为干法刻蚀和湿法腐蚀。原位芯片目前掌握多种刻蚀工艺，并会根据客户的需求，设计刻蚀效果好且的刻蚀解决方案。
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目前全球范围内光刻掩膜版主要以专业生产商为主。由于下游应用领域厂商自建光刻掩膜版生产线的投入产出比很低，且光刻掩膜版行业具有一定的技术壁垒，所以光刻掩膜版都是由专业的生产商进行生产。
常州掩膜版-光刻版厂由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司（www.szphotomask.com）是江苏 苏州 ,光电子、激光仪器的企业，多年来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在苏州制版领导携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创苏州制版更加美好的未来。
