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光刻和刻蚀有什么不同？

这2个词是半导体材料加工工艺中的关键流程，必须相互配合剖面图解读，i好自身找本半导体材料加工工艺的书看。“光刻”就是指在涂上光刻胶的圆晶（或是叫硅片）顶盖上事前搞好的光呆板，随后用紫外光隔着光呆板对圆晶开展必须時间的直射。基本原理就是说运用紫外光使一部分光刻胶霉变，便于浸蚀。“刻蚀”是光刻后，用浸蚀液将霉变的那一部分光刻胶浸蚀掉（正胶），圆晶表层就凸显集成电路工艺以及联接的图型。随后用另这种浸蚀液对圆晶浸蚀，制版公司，产生集成电路工艺以及电源电路。

光学镜片就是指能更改光的传播方位，能够更改紫外线、看得见或红外线的相对性光谱仪遍布的夹层玻璃。范畴的光学镜片就是指没有颜色光学镜片;理论的光学镜片还包含有色板块光学镜片、激光器夹层玻璃、方解石光学镜片。赓旭光学光学镜片可用以生产制造光学设备中的滤光片、镜片、棱镜、反射镜片及对话框等。由光学镜片组成的构件是光学设备中的至关重要元器件。

根据金属化全过程，制版厂家，在硅衬底上布局一层层仅数纳米技术厚的金属材料层。随后在这里层金属材料上覆上一层层光刻胶。这层光阻剂在曝i光（通常是紫外光）后能够 被特殊水溶液（显影液）融解。使特殊的纳米越过光掩膜直射在光刻胶上，能够 对光刻胶开展可选择性直射（曝i光）。随后应用前边提及的显影液，融解掉被直射的地区，那样，光掩模上的图型就展现在光刻胶上。一般 还将根据风干对策，改进剩下一部分光刻胶的某些特性。所述流程进行后，就能够 对衬底开展可选择性的刻蚀或离子注入全过程，未被融解的光刻胶将维护衬底在这种全过程中不被更改。

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