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什么叫掩膜i先人们从物理学的视角讨论一下mask究竟是什么全过程。在半导体设备中,很多集成ic加工工艺流程选用光刻技术,丽水制版,用以这种流程的图型“胶片照片”称之为掩膜(也称之为“掩模”),其功效是:在硅片上选中的地区中对1个不全透明的图型模版遮住,进而下边的浸蚀或外扩散将只危害选中的地区之外的地区。图象掩膜两者之间相近,用选中的图象、图型或物块,对解决的图象(所有或部分)开展挡住,来操纵图象处理的地区或处理方式。-
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光罩,也叫光掩膜版,英文名字叫Mask,是一种由石英为材料制成的,可以用在半导体曝光制程上的母版。 而这种从光罩母版的图形转换到晶圆上的过程,就像机工作一样。我们可以把光刻机想象成机,把母版的图形印到纸张上的过程,就像光刻机把芯片图形印到晶圆上一样,都需要有母版,这个母版在半导体制造上就是光罩。
在生产制造集成ic时,先在圆晶(硅芯片)表层涂光感胶,再用光源穿透掩模板(等于集成ic电路图纸的胶片照片)直射硅片表层,被光源照射的灯光效果胶会产生反映。自此用特殊有机i溶剂洗掉被直射或是未被直射的胶,电路原理图就印到硅片上。此全过程等于木工施工用墨斗施工放样、画线。硅片上带了电路原理图的样图后,制版公司,就到刻蚀机出场,刻蚀机等于木工的锯子、斧子、木工凿、刨刀。刻蚀机按图工程施工,在硅片表层手工雕刻出三极管和电源电路。
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