公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
薄膜特性和适用用途薄膜特性和适用用途...内桶结构，确保准确定位；单一光源成像确保准确、均匀和稳定的点密度。它可以输出各种点形状(圆形点、正方形点、正方形和正方形区域的混合点等)。)和各种网络线路(10-625条线路)。适用于彩色胶印、树脂版印刷、丝网印刷、移印和转印。
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理想的刻蚀工艺必须具有以下特点
① 各向异性刻蚀，即只有垂直刻蚀，没有横向钻蚀。这样才能保证地在被刻蚀的薄膜上出与抗蚀剂上完全一致的几何图形；
② 良好的刻蚀选择性，即对作为掩模的抗蚀剂和处于其下的另一层薄膜或材料的刻蚀速率都比被刻蚀薄膜的刻蚀速率小得多，以保证刻蚀过程中抗蚀剂掩蔽的有效性，不致发生因为过刻蚀而损坏薄膜下面的其他材料；
③ 加工批量大，控制容易，成本低，对环境污染少，适用于工业生产。
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什么叫掩膜i先人们从物理学的视角讨论一下mask究竟是什么全过程。在半导体设备中，掩膜版，很多集成ic加工工艺流程选用光刻技术，用以这种流程的图型“胶片照片”称之为掩膜（也称之为“掩模”），其功效是：在硅片上选中的地区中对1个不全透明的图型模版遮住，进而下边的浸蚀或外扩散将只危害选中的地区之外的地区。图象掩膜两者之间相近，用选中的图象、图型或物块，对解决的图象（所有或部分）开展挡住，来操纵图象处理的地区或处理方式。-
制版厂-宿迁掩膜版由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司（www.szphotomask.com）拥有很好的服务与产品，不断地受到新老用户及业内人士的肯定和信任。我们公司是商盟认证会员，点击页面的商盟客服图标，可以直接与我们客服人员对话，愿我们今后的合作愉快！
