公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
光刻和刻蚀有什么不同？
这2个词是半导体材料加工工艺中的关键流程，必须相互配合剖面图解读，i好自身找本半导体材料加工工艺的书看。“光刻”就是指在涂上光刻胶的圆晶（或是叫硅片）顶盖上事前搞好的光呆板，随后用紫外光隔着光呆板对圆晶开展必须時间的直射。基本原理就是说运用紫外光使一部分光刻胶霉变，便于浸蚀。“刻蚀”是光刻后，用浸蚀液将霉变的那一部分光刻胶浸蚀掉（正胶），圆晶表层就凸显集成电路工艺以及联接的图型。随后用另这种浸蚀液对圆晶浸蚀，产生集成电路工艺以及电源电路。
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
理想的刻蚀工艺必须具有以下特点
① 各向异性刻蚀，即只有垂直刻蚀，光刻版，没有横向钻蚀。这样才能保证地在被刻蚀的薄膜上出与抗蚀剂上完全一致的几何图形；
② 良好的刻蚀选择性，即对作为掩模的抗蚀剂和处于其下的另一层薄膜或材料的刻蚀速率都比被刻蚀薄膜的刻蚀速率小得多，以保证刻蚀过程中抗蚀剂掩蔽的有效性，不致发生因为过刻蚀而损坏薄膜下面的其他材料；
③ 加工批量大，控制容易，成本低，对环境污染少，适用于工业生产。
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
图形扩展和收缩即从栅极开始的尺寸操作，例如栅极处的注入层尺寸扩大了。除了对应于电路的图案之外，完整的光掩模图案还包括一些辅助图案或测试图案。常见的图案包括光标、光刻对准图案和曝光i灯光控制图形、测试关键图形、光学对准目标图形、划线槽图形以及其他LOGO名称、版本等。
苏州光刻版-制版由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司（www.szphotomask.com）是江苏 苏州 ,光电子、激光仪器的企业，多年来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在苏州制版领导携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创苏州制版更加美好的未来。
