公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

掌握丝印网版特点丝印网版确实由甚多化学品构成，成分比较复杂，并不是质朴的随便说说可表述得搞清楚。若使高倍显微镜，会发觉甚多时丝印网版单是感色层及不一样成分的显影药膜都超出13层，而不一样药膜中间又会随時间及室内空气危害，令质量一落千丈。故大伙儿需先掌握丝印网版特点，才可把他们保存得更强。置于精准的作法是﹕不必将丝印网版储放在太阳可立即照射的地区，一起，环境湿度太高亦不适宜。因为太阳的供热会危害丝印网版药膜，使显像后的色彩造成转变。而太潮湿的气体亦会使丝印网版表层受水分及气体中的浮尘危害，使丝印网版的表层原膜造成转变和损伤。 

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的硅基掩膜版是通过微纳加工中常用的刻蚀的方法，在硅基底上刻蚀出的镂空掩膜图案，常被用于二维材料电学，光电等性质的研究。原位芯片通过将的硅基掩膜版覆盖在薄膜材料表面并暴露出电极图案部分沉积金属制备金属电极。

光罩的制作过程

1. 制作石英基板。空白基板通常为6英寸见方，厚度为0.25英寸。它由纯熔融石英制成，通常简称为石英。基板表面必须非常平坦且无缺陷。

2. 沉积吸收层。在基板上是薄的吸收层，可以阻挡来自光刻机的曝光。

3. 沉积光刻胶层。在吸收层的顶部是一层薄的光刻胶，暴露在光罩写入机（Mask Writer）之下。

4. 写入。由光罩写入机完成，使用电子束曝光光刻胶，掩膜版，将芯片设计的图案数据呈现在光刻胶上。

5. 烘烤。烘烤曝光的光刻胶，要求在光罩上的每个点都温度均匀。

6. 显影。 使用显影剂使光刻胶的图像显影，漂洗并干燥而不留下任何残留物。因为光刻胶图案在蚀刻工艺期间用作光罩，所以该显影步骤是关键的，因为显影中的任何不均匀性将导致终图案尺寸的不均匀性。

7. 蚀刻。然后将显影的光罩放到到蚀刻机中，蚀刻机使用等离子体地蚀刻掉由写入和显影步骤带来的吸收剂材料。

8. 剥离和清洁。将蚀刻好的光罩装入清洁机器中，清洁机器使用干等离子体或湿化学法剥离光刻胶。

9. 测量。测量关键尺寸（CD）和图案精度，以确保它们符合客户规格。

10. 检查。为了验证图案精度，将光掩模加载到Inspection机台中。如果发现缺陷，则对它们进行分类和必要的修复。

光刻版厂-温州掩膜版由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司（www.szphotomask.com）坚持“以人为本”的企业理念，拥有一支的员工队伍，力求提供更好的产品和服务回馈社会，并欢迎广大新老客户光临惠顾，真诚合作、共创美好未来。苏州制版——您可信赖的朋友，公司地址：苏州工业园区星湖街328号崇文路国华大厦B418室，联系人：马经理。